分析装置
電界放出型走査電子顕微鏡＋エネルギー分散型X線分析装置
FE-SEM ＋ EDX ：
Field Emission Scanning Electron Microscope
＋Energy Dispersive X-ray Spectrometer
装置：日立製SU5000，Oxford製X-MaxN50
【FE-SEM部】
電子銃：ショットキー型
分解能：1.2nm(15kV) 3nm(1kV)
実用倍率：×10～300,000
加速電圧：0.5～30kV
最大試料サイズ：200mmφ×80mmH
最大試料重量：500g
低真空モード圧力範囲：10～300Pa
・ナノレベルの高分解能観察
・イオンミリング加工を併用して微細断面構造・結晶粒構造を観察
・絶縁物を無蒸着で高分解能低加速電圧観察
・粘性物などを低真空観察，元素分析
・部品，基板などをそのまま観察・分析
【EDX部】
検出器：SDD
分析可能元素：Be～U
検出限界：0.05wt%前後
ポイント分析、ライン分析、マッピング分析、相分析
・短時間で元素マッピング分析
・多点・多数試料の短時間測定
＜観察・分析事例＞
SEM-EDXによる異物分析
付着物(グリス)の分析
結晶の表面観察
コネクタ端子断面の分析
金属材料表面の変色
セラミックスの内部組織観察
銅線の内部組織観察
普通紙の断面観察
FE-SEMによるセラミックスの観察
FE-SEMによる高分解能観察
FE-SEMによる快削黄銅の分析
ステンレス材表面腐食の観察
SEM-EDXによる高速度鋼内部組織のマッピング分析
合成ゴムの分析
SEM-EDXによる粉末異物の分析
難燃性樹脂の分析
材種判定データベースの活用
異物の材種判定手順
立会による観察・分析サービス
FE-SEMによる大試料のそのまま観察
ウェスに回収された異物の分析
破損解析事例
FT-IRによるシート内異物の分析
河川敷岩石の白色付着物分析
SEM-EDXによるグラビア印刷の分析
走査電子顕微鏡(SEM)観察
FE-SEMによるセパレータフィルムの観察
＜技術解説＞
SEM-EDX，EPMAの原理と特徴
SEM-EDX，EPMAの分析領域
きれいなSEM像を観察する(1)
きれいなSEM像を観察する(2)
加速電圧の選択
イオンミリング装置
装置：日立製IM4000
最大試料サイズ：20×10×8mmH
加工速度(断面ミリング)：～300μm／h
加工面積：～1×1mm
加工速度(表面ミリング)：～2μm／h
加工面積：～5mmφ
アルゴンイオンビームで固体材料を加工します。
・断面ミリング：あらかじめ断面観察したい個所の近傍まで機械研磨法により加工し、最終仕上げでイオンミリングを実施して精密な断面試料を作成します。
・表面ミリング：あらかじめ機械研磨法で鏡面研磨仕上げした試料面に対して、イオンミリングによる選択エッチング効果により、結晶粒界や介在物などの輪郭を顕在化させます。
＜観察・分析事例＞
より良い品質のために積層膜断面の精密評価
コネクタ端子断面の分析
銅線の内部組織観察
普通紙の断面観察
FE-SEMによる高分解能観察
FE-SEMによる快削黄銅の分析
SEM-EDXによる高速度鋼内部組織のマッピング分析
電子線マイクロアナライザ
EPMA：Electron Probe MicroAnalyzer
装置：島津製EPMA-1610
電子銃：Wヘアピン型
分解能：6nm(30kV)
実用倍率：～×30,000
加速電圧：0.5～30kV
最大試料サイズ：100mm×100mm×50mmH
最大試料重量：2kg
分析可能元素：B～U
(B, C, N, Oは高感度結晶)
検出限界：数～数10ppm前後
定性分析，定量分析，状態分析
ポイント分析，ライン分析，マッピング分析
・微量元素も含めた定性分析
・検量線法による鋼中微量元素の定量分析
・濃度変換による濃度マッピング分析
・凹凸試料の広域マッピング分析
・スペクトル解析による状態分析
＜観察・分析事例＞
EPMAによる異物分析
EPMAによる状態分析
EPMAによる濃度マッピング
EPMAによる材種判定
EPMAによる微量元素マッピング
EPMAによる湾曲試料のマッピング分析
材種判定データベースの活用
EPMAによる各種分析サービス
EPMAによる金属異物の分析
EPMAによるアルマイト層の分析
＜技術解説＞
SEM-EDX，EPMAの原理と特徴
なぜ重量濃度？(1)
なぜ重量濃度？(2)
EPMAによる濃度マッピング法
SEM-EDX，EPMAによるアルミニウム合金の定量分析
SEM-EDX，EPMAの分析領域
SEM-EDX，EPMAによる境界部の元素拡散の評価方法
EPMAによる元素検出
なぜ重量濃度？(3)
SEM-EDX，EPMAの蛍光励起補正法
加速電圧の選択
なぜ重量濃度？(4)
EPMAにおける試料調製
固体発光分光分析装置
OES：Optical Emission Spectrometer
装置：サーモフィッシャー製ARL3460／MA
分光器：パッシェンルンゲ真空ポリクロメータ
(焦点距離1m)
鉄ベース：
C,Si,Mn,P,S,Ni,Cr,Mo,W,V,Co,Cu,Al,
Nb,Ti,Pb,Mg,Bi,Sn,Sb,Zn
＜分析事例＞
材種判定データベースの活用
フーリエ変換赤外分光分析装置
FT-IR：Fourier Transform Infrared spectrometer
装置：サーモフィッシャー製
NICOLET380＋CENTAURUS
測定波数範囲：7800～350[1/cm]
測定モード：ATR、顕微透過、顕微反射
ATRクリスタル：ダイヤモンド、Ge
アドバンストATR補正
＜分析事例＞
より良い品質のために高分子材料の分析
FT-IRによる高分子系異物の分析
合成ゴムの分析
難燃性樹脂の分析
FT-IR顕微透過法による異物の分析
FT-IRによるシート内異物の分析
この他の分析装置・分析手法につきましても対応可能ですので、ご用命がございましたらご相談ください。
